如今在许多电镀加工厂中相对于传统的电镀工艺，真空电镀加工技术具有三大长处：
一：堆积资料广泛：可堆积铝、钛、锆等湿法电镀无法堆积的低电位金属，通以反响气体和合金靶材更是能够堆积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，手机扣报价，并且能够根据需要规划涂层系统。
二：节省金属资料：因为真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀功能等适当优良，堆积的真空电镀镀层能够远远小于惯例湿法电镀镀层，到达节省的意图。
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基片装在接地的电极上，绝缘靶装在对面的电极上。高频电源一端接地，一端通过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。接通高频电源后，高频电压不断改变极性。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上。由于电子迁移率高于正离子，绝缘靶表面带负电，在达到动态平衡时，靶处于负的偏置电位，从而使正离子对靶的溅射持续进行。采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。
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