溅射镀膜:用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术,陀螺指环扣支架厂,1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用的二极溅射设备如图3[ 二极溅射示意图]。通常将欲沉积的材料制成板材——靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽---真空后充入10-1帕的气体,在阴极和阳极间加几千伏电压,陀螺指环扣支架订做,两极间即产生辉光放电。
1、本实用新型通过在底盘上设置旋转件,通过通孔和凸起的配合,实现旋转件可相对底盘旋转;旋转件与旋转盖花键连接,实现旋转盖可随着旋转件转动;所述指环与所述旋转盖的边缘连接,陀螺指环扣支架,使指环可相对旋转盖在旋转盖的边缘掀起,解决了现有技术中指环扣只能通过在底盘中部转动的问题;
2、在所述指环上设置装饰件,装饰件通过凸边与内轨的配合,使装饰件可以在内轨上活动,为产品增加动态的效果,增加产品的美感与趣味性;
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